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EB-999 六甲基二硅氮烷 HMDS CAS 999-97-3 | 光刻胶粘结促进剂

EB-999(六甲基二硅氮烷 HMDS,CAS 999-97-3)经典光刻胶粘结促进剂,用于晶圆光刻前底涂增粘、颗粒表面硅烷化及有机合成中间体,常温为无色透明液体。广州依帕克斯厂家直供。

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CAS No.： 999-97-3

更新日期： 2025-10-28

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产品概述

产品描述

EB-999 由两个三甲基硅基(CH₃)₃Si—通过 NH 桥接而成,结构对称、位阻适中。其 Si–N 键可与晶圆表面的 Si–OH 羟基反应,置换出氨并生成疏水的三甲基硅基化表面,使光刻胶与晶圆的粘附力显著提升,防止显影时的浮胶与驻波;同时它是有机合成中最常用的硅烷化试剂之一,可对羟基、胺基等活性氢官能团引入三甲基硅基保护,也是重要的有机合成中间体。

EB-999(六甲基二硅氮烷)键线式结构图 — EB-999 化学结构式:[(CH₃)₃Si]₂NH

EB-999 技术指标
化学名称	六甲基二硅氮烷(六甲基二硅烷胺,Hexamethyldisilazane,简称 HMDS)
CAS No.	999-97-3
EINECS号	213-668-5
分子式 / 分子量	C₆H₁₉NSi₂ / 161.39
外观	常温下无色透明液体

※ 以上为典型值,批检数据以出厂 COA / SDS 为准。

应用领域

光刻胶粘结促进(底涂增粘):晶圆光刻前以旋涂、浸渍或气相法涂布 HMDS 并热烘,将表面羟基转化为三甲基硅基,提升光刻胶附着力,防止浮胶与驻波。
晶圆与颗粒表面硅烷化:对二氧化硅、玻璃、氧化物粉体等进行疏水化表面处理。
硅烷化试剂:有机合成中对羟基、胺基等官能团引入三甲基硅基(TMS)保护。
有机合成中间体:用于氮杂环硅烷化、硅胺合成等多种反应体系。

使用方法与添加量

晶圆底涂(经典工艺):晶圆经脱水烘焙后,旋涂、浸渍或气相法涂布 EB-999,再于 150~200 ℃ 热板烘 60~90 秒;液相增粘也可按 HMDS:溶剂 10:1~20:1 稀释后旋涂。

液相硅烷化:按底物用量的 1.0~2.5 当量加入,在无水条件与氮气保护下反应,过量部分经减压回收;具体用量与温度按反应体系确定。

包装与储存

密封贮存于阴凉、通风、干燥处,防潮避光,远离水汽与酸碱;硅氮烷对水汽敏感,开封后建议充氮密封并尽快用完。标准包装:20KG 纸箱、25KG 塑料桶、200KG 铁桶或 IBC(按产品实际可选),可按客户要求提供其他规格。未开封常规有效期 12 个月。

常见问题(FAQ)

EB-999 作光刻胶底涂(HMDS prime)怎么用?温度和时间多少?

经典工艺:晶圆经脱水烘焙后,采用旋涂、浸渍或气相法涂布 EB-999,再在 150~200 ℃ 热板上烘 60~90 秒,使表面羟基转化为三甲基硅基,提升光刻胶附着力并抑制驻波与浮胶;液相增粘也可按 HMDS:溶剂 10:1~20:1 稀释后旋涂。具体参数按光刻胶体系与产线实测确定。

EB-999 与 EB-3101、EB-3601、EB-2101 这四个硅氮烷怎么选?

EB-999(HMDS)为三甲基直链结构,无 Si–H 与乙烯基,工艺成熟,是光刻胶底涂增粘的首选;EB-2101 每个硅带 1 个 Si–H,活性更高,适合表面疏水化与 SiN 薄膜前驱体;EB-3101 带乙烯基,用于光学镀膜交联与硅树脂合成;EB-3601 为环状三硅氮烷,无机产率高,用作陶瓷前驱体。