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EB-2101 四甲基二硅氮烷 CAS 15933-59-2 | 表面疏水化处理用

EB-2101(四甲基二硅氮烷,CAS 15933-59-2)硅氮烷,分子量 133.34,用作硅烷化试剂与还原剂,适用于玻璃/颗粒表面疏水化处理及 SiN 薄膜前驱体。广州依帕克斯厂家直供。

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CAS No.： 15933-59-2

更新日期： 2025-10-30

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产品概述

产品描述

EB-2101 由两个二甲基甲硅烷基(CH₃)₂HSi—通过 NH 桥接而成,每个硅原子上带 2 个甲基和 1 个 Si–H。Si–N 键可与表面羟基反应,把二甲基甲硅烷基接到玻璃、二氧化硅、金属氧化物及纳米颗粒表面,显著降低表面能、赋予疏水性;Si–H 与 Si–N 的组合也使其成为沉积 SiN 薄膜的分子前驱体和有机合成中的硅烷化试剂与还原剂。工业上由二甲基氯硅烷与氨反应制得。

EB-2101(四甲基二硅氮烷)键线式结构图 — EB-2101 化学结构式:[(CH₃)₂HSi]₂NH

EB-2101 技术指标
化学名称	四甲基二硅氮烷(1,1,3,3-四甲基二硅氮烷、Bis(dimethylsilyl)amine,简称 TMDS)
CAS No.	15933-59-2
分子式 / 分子量	C₄H₁₅NSi₂ / 133.34
化学稳定性	化学性质稳定

※ 以上为典型值,批检数据以出厂 COA / SDS 为准。

应用领域

表面疏水化处理:对玻璃、二氧化硅、金属氧化物、纳米颗粒等表面接枝二甲基甲硅烷基,降低表面能,获得疏水/防粘表面。
SiN 薄膜前驱体:作为含 Si–H 的硅氮烷分子前驱体,用于 SiN 薄膜的气相或溶液法沉积。
硅烷化试剂:有机合成中对羟基、胺基等活性氢官能团进行硅烷化保护。
还原剂:用作选择性还原反应的硅氢试剂。

使用方法与添加量

液相表面处理(推荐):用无水乙醇、甲苯等溶剂配成 0.5%~2% 的稀溶液,洁净基片浸渍 5~30 分钟,再以无水溶剂漂洗并于 100~150 ℃ 烘烤固化;处理后水接触角一般可达 100° 以上。

气相法处理:将干燥基片置于 100~200 ℃ 的处理腔中,通入汽化的 EB-2101 反应 10~60 分钟;全程保持干燥,防止水汽进入。具体参数按基材与工艺实测确定。

包装与储存

密封贮存于阴凉、通风、干燥处,防潮避光,远离水汽、酸类与氧化剂;硅氮烷对水汽敏感,开封后建议充氮密封并尽快用完。标准包装:20KG 纸箱、25KG 塑料桶、200KG 铁桶或 IBC(按产品实际可选),可按客户要求提供其他规格。未开封常规有效期 12 个月。

常见问题(FAQ)

EB-2101 做表面疏水化处理怎么用?浓度多少?

可将 EB-2101 用无水乙醇、甲苯等溶剂配成 0.5%~2% 的稀溶液,洁净后的玻璃、二氧化硅或金属氧化物基片浸渍 5~30 分钟,再以无水溶剂漂洗并于 100~150 ℃ 烘烤固化;也可采用 100~200 ℃ 气相法处理。处理后表面水接触角一般可达 100° 以上,具体以实测为准。

EB-2101 与 EB-3101、EB-3601、EB-999 这四个硅氮烷怎么选?

本批四个硅氮烷中,EB-2101 为直链四甲基二硅氮烷,每个硅上带 2 个甲基和 1 个 Si–H,活性高,适合表面疏水化与薄膜前驱体;EB-3101 带乙烯基,用于光学镀膜交联与硅树脂合成;EB-3601 为环状三硅氮烷,用作陶瓷前驱体;EB-999(HMDS)为三甲基结构,是经典光刻胶底涂增粘剂。